凭据《中华人民共和国环境；しā贰ⅰ吨谢嗣窆埠凸肪秤跋炱兰鄯ā贰ⅰ痘肪秤跋炱兰酃也渭臃ㄗ印返任募的要求，新宝GG（仙桃）新资料有限公司委托湖北谋创环境技术征询有限公司承担其光电半导体资料上游关键原资料国产化产业基地项主张环境影响评价工作，现将该项目环境影响评价的有关事宜向公家布告如下：

一、项主张名称和简介

项目名称：光电半导体资料上游关键原资料国产化产业基地项目

建设单元：新宝GG（仙桃）新资料有限公司

项目性质：新建

总投资：23458.74万元

建设地址：仙桃市高新技术产业开发区新资料产业园

建设内容：新宝GG（仙桃）新资料有限公司拟在仙桃市高新技术产业开发区新资料产业园新建光电半导体资料上游关键原资料国产化产业基地项目。拟建设1栋甲类车间，购置并装置出产及配套设备，形成年产2580吨光电半导体资料上游关键原资料出产能力。

现有工程及其环境；で榭觯盒卤G（仙桃）新资料有限公司厂区内已通过审批的项目佑锥年产10000吨第三代半导体用纳米研磨粒子及10000吨集成电路用高纯纳米研磨粒子项目》、《年产30000吨集成电路CMP造程用抛光液和洗濯液项目》，均处于在建阶段。厂区内涵建设的内容有甲类车间2座、丙类车间2座、精馏车间1座、甲类仓库1座、乙类仓库1座、丙类仓库1座、储罐区、动力车间等，厂区占地88057.56m²，

现有工程废气处置措施：①高纯纳米研磨粒子出产废气经二级水喷淋+一级酸喷淋+活性炭吸附处置后由30m排气筒排放；②精馏废气经二级水喷淋+一级酸喷淋+活性炭处置后由30m排气筒排放；③半导体用纳米研磨粒子出产废气经二级碱喷淋处置后由30m排气筒排放；④半导体用纳米研磨粒子干燥包装废气经两级水膜除尘处置后由15m排气筒排放；⑤抛光液出产废气经密关干净室内集气管路网络进入碱喷淋塔处置后由30m排气筒排放；⑥洗濯液出产废气经密关干净室集气管路网络进入氯化钙溶液喷淋+酸喷淋+除湿器+活性炭吸附装置处置后由30m排气筒排放；⑦污水处置站废气经碱液喷淋+UV光解+活性炭吸附处置后由15m排气筒排放；⑧危废暂存间废气经水喷淋+活性炭吸附处置后由15m排气筒排放；⑨储罐区废气经一级水喷淋+一级酸喷淋+活性炭处置后经由15m排气筒排放。

现有工程废水处置措施：现有工程生涯污水经隔油池+化粪池预处置后，排入厂区污水处置站；出产废水直接排入厂区污水处置站。污水处置站处置工艺为“调节池+混凝+水解酸化+IC厌氧+两级A/O+沉淀”。废水中重要传染物的排放浓度均能满足《电子工业水传染物排放尺度》（GB39731-2020）表1间接尺度、《合成树脂工业传染物排放尺度》（GB31572-2015）及园区污水处置厂收受要求，处置后的废水经园区污水管网排入园区污水处置厂进一步处置。

二、建设项主张建设单元名称和联系方式

建设单元：新宝GG（仙桃）新资料有限公司

联系人：何佐云

联系电话：027-59881668

通讯地址：仙桃市高新技术产业开发区新资料产业园

邮箱：372445172@qq.com

三、承；菲拦ぷ鞯幕肪秤跋炱兰刍沟拿

环评单元：湖北谋创环境技术征询有限公司

四、征求公家定见表的网络链接

本次信息公示同时向社会公家征求对本项目建设环保方面的定见，公家定见表下载链接如下：（点击下载）建设项目环境影响评价公家定见表.doc。

五、提交公家定见表的重要方式和蹊径

公家能够通过信函、传真、电子邮件或者建设单元提供的其他方式，将填写的公家定见表等提交建设单元，反映与建设项目环境影响有关的定见和建议。公家提交定见时，该当提供有效的联系方式。激励公家选取实名方式提交定见并提供常住地址。